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目前担任中国机械学会焊接分会青年委员会、围名电子封装国际会议(ICEPT)技术委员会等多个学术组织的委员，IEEE高级会员(SeniorMember)。第达杯单揭图4.Zn,Zn/UVPDA,Zn/PLGA,Zn/UVPDA/PLGA长期浸泡测试分析（a)SEM图像。

图8.本论文入选ACS-AMI期刊封面图片【第一作者介绍】方慧，届台计哈尔滨工业大学材料科学与工程学院博士研究生。

与纯Zn样品相比，高校UVPDA/PLGA涂层在不同样品的不同浓度提取物培养基中培养24小时和72小时后，对SMCs增殖表现出明显的抑制作用(图6a-c)。自动关于基于CNN的适应度函数选择的详细讨论可以在补充材料中找到。

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围名图4(B和C)分别显示了在上一代中获得的QC12的代表性照片及其衍射图。本文还获得了具有代表性的QCs照片，第达杯单揭其衍射花样如图3(D至F)所示。